- Planarisierung
- fпланаризация, создание планарной структуры
Deutsch-Russische Wörterbuch polytechnischen. 2013.
Deutsch-Russische Wörterbuch polytechnischen. 2013.
BPSG — ist eine Abkürzung für: Borphosphorsilicatglas, ein mit je 3 bis 5 % Bor und Phosphor dotiertes Silicatglas, das in der Halbleitertechnik unter anderem zur Planarisierung der Oberfläche eingesetzt wird. Diese Seite ist eine Begriffsklärun … Deutsch Wikipedia
Dotieren — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
Dotierter Halbleiter — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (von lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachte Menge ist dabei… … Deutsch Wikipedia
Greedy Perimeter Stateless Routing in Wireless Networks — (engl. „Greedy Perimeter Wegewahl in Funknetzen“, Abkürzung GPSR) ist ein Routing Protokoll für mobile Ad hoc Netze, also ein Verfahren, mit dem Datenpakete in spontan aufgebauten Rechnernetzen an ihr Bestimmungsziel gelotst werden sollen. Das… … Deutsch Wikipedia
N-Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
N-dotiert — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
P-Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
P-dotiert — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
Lift-off-Verfahren — Das Lift off Verfahren (englisch lift off technique oder auch pattern transfer technique, dt. ‚Musterübertragungstechnik‘) ist in der Halbleiter und Mikrosystemtechnik ein Herstellungsverfahren von strukturierten dünnen Schichten auf der… … Deutsch Wikipedia